تجزیه و تحلیل نوعی لایه‌های اپتیکی

محققان دانشگاه فناوری‌های نوین سبزوار و دانشگاه شهید بهشتی در پژوهشی مشترک، موفق به تجزیه و تحلیل نانو سختی و نانو خراش لایه‌های نانو متری اپتیکی و فوق شفاف F:SiOx شدند.
به گزارش ایسنا، در پژوهش دکتر مرضیه عباسی فیروزجاه، عضو هیئت علمی دانشگاه فناوری‌های نوین سبزوار با همکاری دکتر بابک شکری، عضو هیئت علمی دانشگاه شهید بهشتی، لایه‌های اپتیکی نانومتری و فوق شفاف F:SiOx به روش پلیمریزاسیون پلاسمایی پوشش داده شده و ویژگی‌های نانو سختی و نانو خراش آنها مورد تجزیه و تحلیل قرار گرفته است.
در راستای این پژوهش بررسی مقاومت لایه‌ها در برابر شرایط محیطی سخت در شرکت الکترواپتیکولیزر اصفهان صورت گرفت و کیفیت نمونه‌ها در آزمون مربوطه مورد تأیید قرار گرفت.
محصول این پژوهش کاربردهای فراوانی در صنعت اپتیک، اپتوالکتریک و نانو الکتریک دارد.
بنا بر اعلام روابط عمومی وزارت علوم، این مقاله با درجه اعتبار Q1 در مجله معتبر علمی Journal of Non-Crystalline Solids به چاپ رسیده است.
انتهای پیام